硅片采用的磨料主要為金剛砂，因?yàn)槠淠嫌捕缺頌?.5，僅次于金剛石，且導(dǎo)熱性良好，高抗氧化能力。如今研磨液的懸浮、分散性能并沒有完全滿足生產(chǎn)需要，若使用性能不佳的研磨液在研磨過程中造成較為嚴(yán)重的切片磨損與缺陷，就會(huì)對(duì)后續(xù)加工程序產(chǎn)生非常不利的影響，甚至造成晶片損壞，影響生產(chǎn)效率造成重要損失。

良好的研磨液應(yīng)該是懸浮性好，分散均勻，PH值粘度適中。如果研磨液性能不佳，就會(huì)導(dǎo)致磨料與磨盤的接觸不均勻，進(jìn)而造成應(yīng)力不均，出現(xiàn)碎片，劃傷等嚴(yán)重影響硅片平整度的問題。要想得到穩(wěn)定分散的研磨液，就必須控制體系中zeta電位絕對(duì)值處于一個(gè)較高的位置。

分散劑與活性劑的加入對(duì)金剛砂懸浮性的影響。

分散劑的作用是減少分散體系中各種粒子的聚集程度，在制備金剛砂懸浮分散體系時(shí)加入分散劑可以增大體系的分散懸浮性并保持體系的相對(duì)穩(wěn)定。分散劑對(duì)金剛砂磨料分散作用的機(jī)理是它吸附在顆粒表面，從而增大粒子表面電位，進(jìn)而增大相互之間的排斥作用，顆粒表面必須達(dá)到一定的吸附量才能使磨料體系穩(wěn)定存在，所以分散劑的加入量有一個(gè)最佳值，加入太多貨加入不足都會(huì)影響磨料的懸浮分散性。

選用合適的分散劑把研磨液的分散性與懸浮穩(wěn)定性調(diào)整到最佳狀態(tài)，才能發(fā)揮出研磨液最佳作用。

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